国际离子植入技术会议2020（IIT 2021）将于9月12日至16日在San Diego举行，我们要求您的耐心，因为我们还没有完成此转型的所有细节。国际离子植入技术会议2021（IIT 2021）是二期系列的第23次会议，重点是讨论当前和新兴技术与植入/掺杂和退火过程，设备应用，设备，计量和建模相关的主要挑战。会议为工业，研究机构和大学的工程师和研究人员提供了一个很好的机会，以提出新的结果，并讨论离子植入和退火的新应用的思想。第23届国际性离子植入技术会议将侧重于讨论当前和新兴技术的主要挑战与植入/掺杂和退火工艺，设备应用，设备，计量和建模相关的主要挑战。IIT 2021的支持用作您组织对离子植入和退火社区承诺的可见证据。赞助和展览机会可用于提高可见性，创造品牌知名度并最大限度地提高您的信息的影响。